关于防止半导体分子污染的控制
有关半导体分子污染的控释，即是我们通常所说的AMC控制，通常有两个标准，一个是ISO14644标准，还有一个是Semi标准。

AMC分为四种，第一种是酸性，第二种是碱性，第三种是可凝性、第四中是掺杂性。碱性的物质主要在光照这部分会产生一些影响，掺杂性的问题并不是很突出孙，其他的情况基本问题不大。

对于半导体制造的影响有很多，每个制程都有一些影响，举一些例子就是酸、碱、Solvent比较敏感，ECP对VOC和酸比较敏感，ThinFilm对酸敏感。

AMC的控制大体上有这样一个方案，不同的工厂可能采用的形式不一样，对于新鲜空气AMC控制我们通过两道，第一个是喷气式。第二个是化学过滤器，通过这两道过滤送进洁净室的新风会得到比较好的控制。在洁净室内有一部分污染是来自洁净室内，这部分还是通过化学过滤器，如果还达不到要求，那就要在设备端小环境再安装一道化学过滤器，来达到要求。所以AMC控制要求越来越严，这也是近几年的事情，单单是设备进行过滤已经不能满足要求，所以才出来综合的控制模式。具体的一个工厂AMC控制到什么标准要去考量，因为涉及到成本的问题。